Semiconductor quartz wafer ụgbọ mmiri

Semixlab Semiconductor Quartz ụgbọ mmiri wafer bụ isi ihe eji ebu ihe emebere maka usoro okpomọkụ dị elu dị ka mgbasa, oxidation, CVD, annealing, wdg, na nrụpụta semiconductor. Emere ya na quartz sịntetik dị ọcha nke nwere oke nguzogide okpomọkụ dị elu, nkwụsi ike kemịkalụ na ọnụọgụ mgbasawanye ọkụ dị ala, ọ nwere ike iburu wafers na gburugburu usoro siri ike iji hụ na usoro na-agbanwe agbanwe na mkpụrụ ngwaahịa.

Ngwa eji eme ihe: Dakọtara na ụdị ọkụ ọkụ kwụ ọtọ / kwụ ọtọ (Horizontal / Vertical Diffusion Furnace), usoro LPCVD na ngwa ọgwụgwọ okpomọkụ (RTP).

Ntụkwasị obi ịdị mma

Njikwa ogo siri ike: 100% nchọpụta leak nke helium mass spectrometry (ọnụego ntapu <1×10⁻ mbar·L/s). Enyere akụkọ ịdị ọcha ihe (ICP-MS test) maka ogbe ọ bụla.

Asambodo asambodo: N'ikwekọ na nkọwa SEMI F47, site na asambodo sistemu njikwa ogo ISO 9001:2015.

Ndụ ọrụ: nkezi ndụ n'okpuru ọnọdụ nkịtị bụ ihe karịrị afọ 2 (dabere na usoro ugboro na ọnọdụ okpomọkụ).

Kedu ihe kpatara ịhọrọ ụgbọ mmiri quartz anyị?

Ọrụ ahaziri ahazi: nha na ihe owuwu ahaziri dịka ụdị akụrụngwa (TEL, Kokusai, ASM, wdg) na usoro chọrọ.

Nzaghachi ngwa ngwa: Oge nnyefe ọkọlọtọ bụ izu 3, iwu ngwa ngwa nwere ike belata ruo ụbọchị ọrụ 10.

Netwọk ọrụ zuru ụwa ọnụ: Nye ndụmọdụ teknụzụ, ntụzịaka nrụnye na nkwado nkwado mgbe ire ere. Nkọwa ihe.

Nkọwapụta ọrụ

Ngwakọta ihe Fused Quartz

Ịdị ọcha ≥99.99% SiO₂

Wafer nha ndakọrịta 8 ", 12" (nwere ike ahaziri 6" ma ọ bụ 18")

Okpomọkụ na-arụ ọrụ ≤1200°C (na-aga n'ihu) / 1300°C (elu)

Ọnụọgụ nke mgbasawanye thermal (CTE) 0.55×10⁻⁶/°C (20-1000°C)

Ịdị nro dị n'elu (Ra) ≤0.2μm

Ikike ọkọlọtọ 25/50/100 mbadamba

Ọdabara usoro gas O₂, N₂, H₂, Ar, SiH₄, HCl, wdg

Okpomọkụ oxidation/ mgbasa ozi dị elu: silicon doping (phosphorus, boron diffusion), uto oxide ọnụ ụzọ.

Ntinye ihe nkiri dị mkpa: LPCVD polycrystalline silicon, Silicon nitride (Si₃N₄) nkwụnye ego.

Usoro mgbakasị ahụ: annealing after ion implantation (RTA), metal alloying.

Ọgbọ nke atọ semiconductor: silicon carbide (SiC), gallium nitride (GaN) epitaxy usoro.

1. Njirimara ihe

Ultra-high ịdị ọcha quartz (> 99.99% SiO₂): na-ezere mmetọ site na ion metal (Na +, K +, Fe³ +, wdg) ma na-ezute ihe dị ọcha chọrọ maka usoro dị elu (<5nm nodes).

Nnukwu okpomọkụ na-eguzogide: okpomọkụ na-arụ ọrụ nke 1200 ° C na-aga n'ihu, nguzogide okpomọkụ nke 1300 Celsius C, enweghị nrụrụ ma ọ bụ ihe egwu kristal.

Inertness kemịkalụ: Iguzogide gas usoro dị ka HCl, H₂, O₂, SiH₄ na gburugburu acid/alkaline. anaghị emebi emebi n'iji ogologo oge eme ihe.

2. Nhazi nkenke

Welie nhazi ahụ:

Oghere oghere oghere bụ ± 0.05mm, na-eme ka ọnọdụ wafer ziri ezi (8/12 inch) na igbochi ncha ma ọ bụ mbugharị.

Nhazi na-eguzogide ujo, na-emegharị maka ịrị elu na ọdịda ngwa ngwa (ọnụọgụ ọkụ ≤20 ° C / min).

Obere urughuru guzobe: elu bụ ultra-nkenke polished (Ra ≤0.2μm) iji belata urughuru mgbakwunye na-ada apụ.

3. Nhazi dị iche iche

Nhọrọ ikike: Nkwado 25 iberibe, 50 iberibe, 100 iberibe na ọkọlọtọ ọkọlọtọ ndị ọzọ, nwekwara ike ahaziri nọmba oghere na-abụghị ọkọlọtọ.

Ụdị mmegharị: Ụgbọ mmiri mepere emepe, ụgbọ mmiri emechiri emechi ma ọ bụ ụdị ụgbọ mmiri pụrụ iche (dịka nhazi ọwa mgbagharị ụgbọ mmiri).

Q1: Ị nwere ike ịnye nha na-abụghị ọkọlọtọ ma ọ bụ nhazi pụrụ iche?

A1: Semixlab na-akwado maka ọrụ omenala, gụnyere nhazi nha, oke okpomọkụ (nkwalite ihe achọrọ) ma ọ bụ ụdị interface. Biko kpọtụrụ ndị otu nka nka Semixlab maka ihe achọrọ.

Q2: Ogologo oge ole ka oge ndu?

A2: Oge nnyefe maka ngwaahịa ọkọlọtọ bụ izu 4-6, na oge nhazi na nkwenye maka ngwaahịa omenala bụ izu 2-3.

Q3: Ị na-enye nkwado teknụzụ mgbe-ahịa?

A3: Ee, anyị na-enye ndụmọdụ teknụzụ ogologo ndụ na ọrụ nzaghachi mberede. N'ihe nrụnye ma ọ bụ nsogbu iji, enwere ike ịkpọtụrụ ndị otu nkwado n'oge ọ bụla site na email ma ọ bụ ekwentị.

Q4: Ngwaahịa a ọ na-ezute ụkpụrụ ụlọ ọrụ semiconductor?

A4: Ee, usoro mmepụta na-agbaso ụkpụrụ SEMI ma kwadoro usoro njikwa àgwà ISO 9001. A na-anwale ogbe ọ bụla maka ikuku ikuku, nguzogide okpomọkụ na ịdị ọcha tupu ịhapụ ụlọ ọrụ mmepụta ihe.